Casi todos los elementos presentes en una muestra sólida se pueden detectar y cuantificar de forma rutinaria: la mayoría en el nivel de partes por mil millones (ppmm).

Alta productividad y bajo coste de análisis
El GD-MS Element GD Plus está diseñado para ofrecer una sensibilidad y precisión excepcionales con un alto rendimiento de muestras, lo que reduce drásticamente el coste de los análisis.

• Fuente de iones de flujo rápido
• Diseño de la fuente fácil de usar: Intercambio de muestras en < 1 min
• Tiempos de bombeo cortos: Procesamiento de las muestras en < 10 min
• Alto rendimiento de muestras: Hasta 5 muestras por hora
• Menor preparación de muestras: No es necesario limpiar con ácido las muestras de alta pureza
• Análisis de muestras más rápido: No es necesario medir patrones de calibración

Funcionamiento rutinario
El GD-MS Element GD Plus está diseñado con un funcionamiento rutinario y un alto rendimiento en su esencia.

• El intervalo dinámico lineal que abarca más de 12 órdenes de magnitud permite el análisis simultáneo de elementos de matriz (%), trazas (ppm) y ultratrazas (ppmm)
• La calibración cruzada automática entre diferentes modos de detección garantiza resultados consistentes
• Cámara de vacío para muestras: elimina el riesgo de fugas entre la muestra y la celda delGD
• Determine las concentraciones elementales rápidamente en un solo barrido sin patrones de calibración (mediante el enfoque de RSF estándar)
• La mejor precisión en un breve periodo de análisis

Límites de detección excepcionales
El GD-MS Element GD Plus ofrece un alto rendimiento sin comprometer los resultados. Con la relación señal-ruido más alta y los límites de detección más bajos, el GD-MS Element GD Plus es una herramienta de trabajo potente para el análisis elemental de pureza ultraalta.

• Fuente de iones exclusiva diseñada para una alta transmisión de iones, maximizando la señal analizada.
• La relación señal-ruido garantizada produce límites de detección inferiores a ppmm
• La opción CNO permite alcanzar límites de nivel de detección inferiores a ppm para CNO sin comprometer el rendimiento del análisis
• Reducción del factor 10 de las interferencias poliatómicas en comparación con las fuentes de GD estáticas

Confianza en los resultados con alta resolución de masas
La simplicidad de la ICP-MS de alta resolución permite un rendimiento más avanzado, sin comprometer el desarrollo sencillo y fiable de los métodos.

• Mediciones sin interferencias para resultados analíticos indiscutibles
• Cualquier combinación de ajustes de resolución se puede realizar en un solo análisis
• El diseño de rendija fija garantiza la máxima estabilidad y reproducibilidad
• Contribución mínima de las señales de matriz alta en los picos de analito cercanos debido a la lente del filtro

Perfilado en profundidad con resolución nanométrica
El perfilado en profundidad es una herramienta importante para el análisis elemental de revestimientos y la evaluación de la difusión de elementos entre las capas.

• Resolución en profundidad de nanómetros a cientos de micrómetros
• Determinación de las concentraciones de todos los elementos desde inferiores a ppm hasta 100% sin necesidad de calibración
• Diámetro de ánodo flexible para un perfilado en profundidad avanzado.
• Las velocidades de pulverización se pueden ajustar para análisis a granel o perfilado en profundidad

Recomendado para:

• Aeroespacial: superaleaciones de níquel, materiales compuestos, realización de perfiles de profundidad de revestimientos y capas de difusión
• Microelectrónica: cobre, alúmina en polvo, objetivos de pulverización
• Energías renovables: bloques de silicio, obleas, celdas solares
• Medicina/farmacéutica/alimentación: acero inoxidable, aleaciones