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Semiconductor Analysis
Semiconductor Scanning Electron Microscope Metrology
Scanning electron microscope metrology for the automated ultra-high-resolution measurement of critical dimensions.
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Scanning electron microscopy (SEM) provides high-quality surface and cross-sectional imaging of 3D structures. As semiconductor feature sizes continue to decrease in response to consumer and industry demands, nanoscale metrology becomes an increasingly important contributor to process and device design yield. Accurate and repeatable nanoscale measurements of critical dimensions require high-resolution SEM imaging and extremely accurate magnification calibration.
The ultra-high-resolution automated SEM capabilities offered by Thermo Fisher Scientific, when combined with our industry-leading software solutions, perform imaging and metrology with the automation, precision, and robustness needed to meet the challenges of leading memory and logic customers. Leveraging NIST-traceable calibration standards, mature imaging automation (both cross-sectional and top-down), and next-generation machine-learning-enabled metrology, Thermo Scientific automated SEMs provide cost-effective 3D metrology for direct process and device monitoring, as well as faster time to market.
Thermo Fisher Scientific offers a range of SEM metrology tools for critical dimension analysis, including the Thermo Scientific Verios 5 SEM with Thermo Scientific AutoSEM Software for top-down SEM metrology. Please click through to the appropriate product pages below for more information, or to request a demo.
SEM metrology performed automatically with Thermo Scientific software.
SEM metrology workflow examples
Desarrollo y trazabilidad de semiconductores
Microscopía electrónica avanzada, haz de iones enfocado y técnicas analíticas asociadas para identificar soluciones viables y métodos de diseño para la fabricación de dispositivos semiconductores de alto rendimiento.
Caracterización física y química
La demanda continua de los consumidores impulsa la creación de dispositivos electrónicos más pequeños, más rápidos y más baratos. Su producción se basa en instrumentos y flujos de trabajo de alta productividad que generan imágenes, analizan y caracterizan una amplia gama de semiconductores y dispositivos de visualización.
Metrología y rampa de producción
Ofrecemos capacidades analíticas avanzadas para el análisis de defectos, metrología y control de procesos, diseñadas para ayudar a aumentar la productividad y mejorar el rendimiento en una amplia gama de aplicaciones y dispositivos semiconductores.
Análisis de fallos de semiconductores
Las estructuras de dispositivos semiconductores cada vez más complejas dan lugar a que existan más ubicaciones en las que se oculten los defectos inducidos por fallos. Nuestros flujos de trabajo de última generación le ayudarán a localizar y caracterizar los sutiles problemas eléctricos que afectan a la producción, al rendimiento y a la fiabilidad.
Análisis de dispositivos semiconductores de energía
Los dispositivos de energía plantean retos únicos para la localización de fallos, principalmente como resultado de su arquitectura y diseño. Nuestras herramientas y flujos de trabajo de análisis de dispositivos de energía permiten localizar rápidamente los fallos en condiciones de funcionamiento y proporcionar un análisis preciso y de alto rendimiento para la caracterización de materiales, interfaces y estructuras de dispositivos.
Análisis de fallos del módulo de visualización
La evolución de las tecnologías de visualización tiene como objetivo mejorar la calidad de la misma y la eficacia de la conversión de la luz para admitir aplicaciones en diferentes sectores de la industria, mientras se reducen los costes de producción. Nuestra metrología de procesos, análisis de fallos y soluciones de investigación y desarrollo ayudan a las empresas de visualización a resolver estos retos.
Materiales semiconductores y caracterización de dispositivos
A medida que los dispositivos semiconductores se reducen y se vuelven más complejos, se necesitan nuevos diseños y estructuras. Los flujos de trabajo de análisis en 3D de alta productividad pueden reducir el tiempo de desarrollo de dispositivos, maximizar el rendimiento y garantizar que los dispositivos satisfacen las necesidades futuras del sector.
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