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The Thermo Scientific ExSolve wafer TEM prep (WTP) DualBeam (FIB-SEM) dramatically reduces the cost and increases the speed of sample preparation, providing semiconductor and data storage manufacturers with quick and easy access to the data they need to verify and monitor process performance. The ExSolve DualBeam can prepare site-specific TEM lamella, sampling many sites per wafer in a fully-automated process inside the fab, giving semiconductor manufacturers much more information than conventional approaches, while at the same time reducing the capital cost of sample preparation by up to 70 percent.
The ExSolve WTP DualBeam system is an automated, high-throughput sample preparation system that can prepare site-specific, 20 nm thick lamellae on whole wafers up to 300 mm in diameter. It is part of a fast, complete workflow that includes Thermo Scientific TEMLink, and the Thermo Scientific Metrios TEM. The ExSolve DualBeam includes FOUP handling and is designed to be located in the fab near the manufacturing line.
The ExSolve WTP DualBeam workflow addresses the needs of customers that require automated, high-throughput sampling at advanced technology nodes. It complements the capabilities of the Thermo Scientific Helios NanoLab DualBeam 1200AT, which provides more flexible, operator-directed, sample preparation methods, along with additional capabilities such as high-resolution scanning electron microscopy (SEM) imaging and analysis.
Microscopía electrónica avanzada, haz de iones enfocado y técnicas analíticas asociadas para identificar soluciones viables y métodos de diseño para la fabricación de dispositivos semiconductores de alto rendimiento.
Ofrecemos capacidades analíticas avanzadas para el análisis de defectos, metrología y control de procesos, diseñadas para ayudar a aumentar la productividad y mejorar el rendimiento en una amplia gama de aplicaciones y dispositivos semiconductores.
Las estructuras de dispositivos semiconductores cada vez más complejas dan lugar a que existan más ubicaciones en las que se oculten los defectos inducidos por fallos. Nuestros flujos de trabajo de última generación le ayudarán a localizar y caracterizar los sutiles problemas eléctricos que afectan a la producción, al rendimiento y a la fiabilidad.
La demanda continua de los consumidores impulsa la creación de dispositivos electrónicos más pequeños, más rápidos y más baratos. Su producción se basa en instrumentos y flujos de trabajo de alta productividad que generan imágenes, analizan y caracterizan una amplia gama de semiconductores y dispositivos de visualización.
Los sistemas DualBeam de Thermo Scientific proporcionan una preparación precisa de las muestras de TEM para el análisis a escala atómica de dispositivos semiconductores. La automatización y las tecnologías de aprendizaje automático avanzado producen muestras de alta calidad, en la ubicación correcta y con un bajo costo por muestra.
Las rutinas de metrología TEM avanzadas y automatizadas ofrecen una precisión significativamente mayor que los métodos manuales. Esto permite a los usuarios generar grandes cantidades de datos estadísticamente relevantes, con una especificidad de nivel subangstrom, sin fallos del operador.
Los sistemas DualBeam de Thermo Scientific proporcionan una preparación precisa de las muestras de TEM para el análisis a escala atómica de dispositivos semiconductores. La automatización y las tecnologías de aprendizaje automático avanzado producen muestras de alta calidad, en la ubicación correcta y con un bajo costo por muestra.
Las rutinas de metrología TEM avanzadas y automatizadas ofrecen una precisión significativamente mayor que los métodos manuales. Esto permite a los usuarios generar grandes cantidades de datos estadísticamente relevantes, con una especificidad de nivel subangstrom, sin fallos del operador.
Para garantizar un rendimiento óptimo del sistema, le proporcionamos acceso a una red de expertos de primer nivel en servicios de campo, asistencia técnica y piezas de repuesto certificadas.




