반도체 장치 구조의 크기가 줄어들고 복잡해짐에 따라 결함 위치 파악 및 고장 분석이 더 중요해지고 더욱 까다로워지고 있습니다. 고밀도 상호 연결, 웨이퍼 수준 스태킹, 유연한 전자 장치 및 일체형 기판은 고장을 유발하는 결함이 숨을 곳이 더 많다는 것을 의미합니다. 더 심각한 문제는 이러한 고장이 장치 패키징 단계에서 발생할 수 있으며, 이로 인해 수율이 크게 저하되고 출시 기간이 지체될 수 있다는 점입니다.

첨단 분석 도구는 수율, 신뢰성, 성능에 부정적인 영향을 줄 수 있는 전기적 결함을 탐지하는 데 필수적입니다. 올바른 장비를 사용하면 시료에서 포괄적인 결함 데이터를 빠르게 추출하여 전기적 고장 분리와 관련된 시간 및 비용을 줄일 수 있습니다.

Thermo Fisher Scientific은 빠른 물리적, 전기적 고장 분석을 위한 첨단 분석 도구를 제공합니다. 당사의 워크플로우는 사용자가 수율, 성능, 신뢰성에 영향을 미치는 미세한 전기 문제를 로컬화하고 특성을 분석하는 데 도움을 줍니다. 자세한 내용을 보려면 당사의 기술 또는 제품 페이지를 클릭하십시오.

반도체 결함 위치 파악 및 분석 워크플로우 예

 

 

Style Sheet for Komodo Tabs

기술

광학적 고장 분리

점점 더 복잡해지는 설계는 반도체 제조 과정에서 장애와 결함 분리를 복잡하게 만듭니다. 광학적 고장 분리 기술을 사용하면 전기적 활성 장치의 성능을 분석하여 장치의 고장을 일으키는 주요 결함의 위치를 찾을 수 있습니다.

자세히 알아보기 ›

열 고장 분리

로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 TEM 이미지 생성 및 분석

Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 분석 및 이미징

Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

나노탐침

장치의 복잡성이 증가함에 따라 결함을 숨겨야 하는 부분의 수도 증가합니다. 나노탐침은 효과적인 투과 전자 현미경 불량 분석 워크플로우에서 중요한 전기 고장의 정확한 위치 측정 기능을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 레이저 절제

레이저 절제 기능은 전자 현미경의 이미지 생성 및 분석에서 반도체 장치의 고처리량 밀링을 제공하는 동시에, 시료의 무결성을 유지해 줍니다. 대용량 3D 데이터에 접근하고 시료 유형에 가장 적합한 밀링 조건으로 최적합니다.

자세히 알아보기 ›

APT 시료 준비

원자 프로브 단층촬영(APT)은 물질의 원자 분해능 3D 조성 분석 기능을 제공합니다. 집속 이온 빔(FIB) 현미경법은 APT 특성 분석을 위한 고품질, 방향 설정, 위치-특이적인 시료 준비를 위한 필수 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

장치 층 제거

기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

ESD 규정 준수성 검사

정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

광학적 고장 분리

점점 더 복잡해지는 설계는 반도체 제조 과정에서 장애와 결함 분리를 복잡하게 만듭니다. 광학적 고장 분리 기술을 사용하면 전기적 활성 장치의 성능을 분석하여 장치의 고장을 일으키는 주요 결함의 위치를 찾을 수 있습니다.

자세히 알아보기 ›

열 고장 분리

로컬 전력 소실의 불균등한 분포는 로컬 온도를 크게 상승시켜 장치 고장을 유발할 수 있습니다. 고감도 LIT(lock-in infrared thermography)에 의해 열 고장 분리를 위한 고유한 솔루션을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 TEM 이미지 생성 및 분석

Thermo Fisher Scientific 투과 전자 현미경은 반도체 장치의 고분해능 이미지 생성 및 분석 기능을 제공함으로써, 제조업체에서 도구 세트를 보정하고 고장 메커니즘을 진단하며 전체 공정 수율을 최적화할 수 있도록 해줍니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 분석 및 이미징

Thermo Fisher Scientific은 일반적인 이미지 생성 작업에서 정밀도 높은 전압 대비 측정이 필요한 고급 고장 분석 기술에 이르까지 반도체 실험실의 모든 기능을 위한 주사전자현미경을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

나노탐침

장치의 복잡성이 증가함에 따라 결함을 숨겨야 하는 부분의 수도 증가합니다. 나노탐침은 효과적인 투과 전자 현미경 불량 분석 워크플로우에서 중요한 전기 고장의 정확한 위치 측정 기능을 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

반도체 레이저 절제

레이저 절제 기능은 전자 현미경의 이미지 생성 및 분석에서 반도체 장치의 고처리량 밀링을 제공하는 동시에, 시료의 무결성을 유지해 줍니다. 대용량 3D 데이터에 접근하고 시료 유형에 가장 적합한 밀링 조건으로 최적합니다.

자세히 알아보기 ›

APT 시료 준비

원자 프로브 단층촬영(APT)은 물질의 원자 분해능 3D 조성 분석 기능을 제공합니다. 집속 이온 빔(FIB) 현미경법은 APT 특성 분석을 위한 고품질, 방향 설정, 위치-특이적인 시료 준비를 위한 필수 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

장치 층 제거

기능 크기 축소는 첨단 설계 및 아키텍처와 함께 반도체에 대한 불량 분석을 점차 까다로워지게 하는 결과를 가져옵니다. 장치의 손상 없는 층 제거는 전기적 결함 및 고장을 감지하기 위한 중요한 기법입니다.

자세히 알아보기 ›

ESD 규정 준수성 검사

정전기 방출(ESD)은 반도체와 집적 회로의 작은 특성 및 구조를 손상시킬 수 있습니다. 당사에서는 기기가 표적 ESD 규정 준수 표준을 준수하는지 검증하는 종합적인 검사 장비 세트를 제공합니다.

자세히 알아보기 ›

시료


반도체 물질 및 장치 특성 분석

반도체 장치가 축소되고 복잡해짐에 따라 새로운 설계와 구조를 필요로 하게 되었습니다. 고생산성의 3D 분석 워크플로우는 장치 개발 시간을 단축하고 수율을 극대화할 수 있으며, 장치가 산업의 향후 요구 사항에 부합되도록 보장합니다.

자세히 알아보기 ›


제품

기기 카드 원본 스타일시트

Spectra Ultra

  • 대부분의 빔에 민감한 물질에 대한 새로운 이미징 및 분광법 기능
  • Ultra-X를 통한 EDX 검출 기능의 도약
  • 시료 무결성을 유지하도록 설계된 컬럼

Helios 5 EXL DualBeam

  • 높은 품질의 시료 준비를 위한 저전압 성능
  • 초고분해능 액침 렌즈 전계 방출 SEM 컬럼
  • EFEM을 통한 300mm FOUP 자동 처리(GEM300 준수)

Helios 5 DualBeam

  • 완전 자동 고품질 초박형 TEM 시료 준비
  • 높은 처리량의 고분해능 표면 및 3D 특성 분석
  • 고속 나노 프로토타입 제작 기능

Talos F200E TEM

  • 반도체 및 마이크로전자 장치의 고품질 (S)TEM 이미징
  • EDS를 통한 정밀하고 고속의 화학적 특성 분석
  • 전용 반도체 관련 응용 분야

Metrios AX TEM

  • 품질, 일관성, 계측, 운영 비용 절감을 지원하는 자동화 옵션
  • 머신 러닝을 활용하여 탁월한 자동맞춤 및 기능 인식 제공
  • 현장(in-situ)현장 외(ex-situ) 박막층 준비를 위한 워크플로우

Scios 2 DualBeam

  • 자성 및 비전도성 시료에 대한 완벽한 지원
  • 높은 처리량의 표면 하부 및 3D 특성 분석
  • 향상된 사용 편의성 및 자동화 기능

ExSolve WTP DualBeam

  • 최대 직경 300mm의 전체 웨이퍼에 대해 부위 특이적인 20nm 두께 박막층 가능
  • 고급 기술 노드에서 자동화된 고처리량 시료 처리가 필요한 요구사항 해결

Verios 5 XHR SEM

  • 1keV ~ 30keV의 전체 에너지 범위에 걸친 나노미터 미만 분해능을 위한 모노크로메이트 SEM
  • 최저 20eV까지 빔 랜딩 에너지에 쉽게 접근 가능
  • 표준으로 제공되는 피에조(piezo) 스테이지에 의한 뛰어난 안정성

Quattro ESEM

  • 고유한 환경 기능(ESEM)을 갖춘 다기능성 고분해능 FEG SEM
  • 모든 조작 모드에서 동시 SE 및 BSE 이미징을 통한 모든 시료의 모든 정보 관찰

PRISMA E SEM

  • 탁월한 이미지 품질의 초보 수준 SEM
  • 여러 시료를 신속하고 쉽게 로딩 및 탐색
  • 전용 진공 모드를 통해 광범위한 물질 사용 가능

Apreo 2 SEM

  • 전방위적인 나노미터 미만 분해능을 위한 고성능 SEM
  • 민감하고 TV 속도 물질 대비를 위한 In-column T1 후방산란 검출기
  • 긴 작동 거리에서(10mm)에서 뛰어난 성능

Phenom ProX G6 데스크탑 SEM

  • EDS 통합 검출기를 갖춘 고성능 데스크탑 SEM
  • 분해능 <6nm(SE) 및 <8nm(BSE), 최대 350,000x 확대
  • SE 검출기 옵션

Taipan G2+ Circuit Edit System

  • 10nm 노드 사양을 충족시키는 이미징 및 밀링 분해능
  • 전도체와 절연체에 대한 뛰어난 에칭 선택성 및 증착 관리
  • 탁월한 탐색 및 이온 빔 배치 정확도

Centrios CE

  • 뛰어난 이미지/밀링 분해능
  • 향상된 밀링 정밀도 및 제어
  • Thermo Scientific Helios DualBeam 플랫폼 상에 구축

MK.4TE ESD 및 Latch-Up 테스트 시스템

  • 신속한 릴레이 기반 작업 - 최대 2304 채널
  • 6개의 분리된 벡터 드라이브 레벨을 사용한 고급 기기 preconditioning
  • 완전한 규정준수 Latch-Up 자극 및 기기 바이어싱

ELITE 시스템

  • 완전 비파괴
  • 정확한 조치를 위해 조립 보드의 결함 부품을 신속하게 식별
  • 20µm 깊이의 정확한 깊이 위치와 마이크로미터 정확도로 x-y에서 결함 위치 파악

nProber IV

  • 트랜지스터 및 BEOL 고장 위치 확인
  • 열 나노프로빙(-40°C ~ 150°C)
  • 반자동 작동

Meridian S 시스템

  • 활성 프로브 기술을 통한 고장 진단
  • 정적 레이저 자극(SLS/OBIRCH) 및 광자 방출 옵션
  • 마이크로프로빙 및 프로브 카드 장치 자극을 모두 지원

Meridian WS-DP 시스템

  • 광대역 DBX 또는 InGaAs 카메라 시스템을 사용한 고감도, 저노이즈, 저전압 광자 방출 검출
  • 스캔 체인 분석, 주파수 맵핑, 트랜지스터 프로브 및 고장 격리를 위한 다중 파장 레이저 주사 현미경

Meridian 7 시스템

  • 10nm 이하의 노드에 대한 동적 광학 오류 격리
  • 고분해능 가시광선 및 적외선
  • 5μm 까지 광범위한 고수율 시료 준비

Meridian IV 시스템

  • 고감도 확장된 파장 DBX 광자 방출 검출
  • 표준 InGaAs 광 방출 검출
  • 다중 파장 옵션이 있는 레이저 주사 현미경

Celestron 테스트 시스템

  • 웨이퍼 및 패키지 레벨 TLP 테스트
  • 고전류 TLP 펄스 생성기
  • 반자동 프로버(prober)와 인터페이스 가능
  • 제어와 보고서 생성을 위한 직관적인 소프트웨어

Orion3 테스트 시스템

  • 충전된 장치 모델 테스트
  • 듀얼 고분해능 컬러 카메라
  • 0.4mm 피치 미만으로 밀도 테스트

Pegasus

  • 최신 산업 표준에 준하는 테스트
  • 진정한 시스템 수준 ESD 150pF/330Ω 네트워크
  • 모든 장치에 웨이퍼 프로브를 통한 2핀 연결

AutoTEM 5

  • 완전 자동 현장(in situ) S/TEM 시료 준비
  • 상-하, 평면, 역 기하학 지원
  • 고도로 구성 가능한 워크플로우
  • 사용이 쉽고 직관적인 사용자 인터페이스

Auto Slice and View 4.0 소프트웨어

  • DualBeam을 위한 자동 연속 절편
  • 다중 모드 데이터 수집(SEM, EDS, EBSD)
  • 즉각적인 편집 기능
  • 모서리 기반 절단 배치

iFast 소프트웨어

  • 더욱 빠른 레시피 생성을 위한 매크로 레코더
  • 무인 야간 작업을 위한 러너
  • 정렬 도구: 이미지 인식 및 가장자리 찾기

Inspect 3D 소프트웨어

  • 교차-상관관계를 위한 이미지 처리 도구 및 필터
  • 이미지 정렬을 위한 형상 추적
  • 반복 투영 비교를 위한 대수적 재구성 기술

NEXS 소프트웨어

  • NEXS와 회로 편집 시스템 간의 위치/배율을 자동으로 동기화하여 보다 원활한 사용자 환경 제공
  • EFA, PFA 및 회로 편집 공간에 사용되는 대부분의 Thermo Scientific 도구에 연결

Style Sheet to change H2 style to p with em-h2-header class

문의하기