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The Thermo Scientific Meridian S System is designed to perform inverted photon emission (EMMI) and laser scanning microscopy analysis on devices stimulated by static bias via probe card or micro-probes. With the overall cost of ownership for the system being a critical aspect of profitability, the Meridian S System offers a range of photon emission options, dual-side probing flexibility and an upgrade path to dynamic optical fault isolation capabilities such as laser voltage imaging/probing and soft defect localization.
The Meridian S System is designed for use in failure analysis labs worldwide, aiding in:
High-sensitivity, lock-in capable, noise-eliminating static laser stimulation/optical beam induced resistance change (SLS/OBIRCH) detection enabled by Fault Diagnostic with Active Probe Technology.
Photon emission options spanning a range of sensitivity requirements for isolating shorts, detecting areas of excess leakage, and mapping active regions.
Probing setup and software designed for ease-of-use and productivity.
Fully scalable and upgradable optical platform.
Inverted optical system |
Combo system: LSM + PEM standard, with optional LSM-only or PEM-only configurations |
220VAC, 50Hz/60Hz |
Standard 9” x 9” load board interface, plus customizable alternatives |
Dual-side microprobing and Probe Card configurations available |
Stage repeatability ≤2μm |
Optional laser marker for defect redetection |
Fortschrittliche Elektronenmikroskopie, fokussierter Ionenstrahl und zugehörige Analyseverfahren zur Identifizierung umsetzbarer Lösungen und Designmethoden für die Herstellung von leistungsstarken Halbleiterbauelementen.
Durch immer komplexere Strukturen von Halbleiterbauelementen können sich an mehr Stellen folgenschwere Mängel verbergen. Mit unseren Arbeitsabläufen der nächsten Generation können Sie auch kleinste Probleme in der Elektrik lokalisieren und charakterisieren, die sich auf die Ausbeute, Leistung und Zuverlässigkeit auswirken.
Optische Fehlerisolierung
Immer komplexere Konstruktionen erschweren die Isolierung von Fehlern und Defekten in der Halbleiterfertigung. Mit Verfahren der optischen Fehlerisolierung können Sie die Leistung von elektrisch aktiven Geräten analysieren, um systemrelevante Defekte zu finden, die zu einem Geräteausfall führen.
Optische Fehlerisolierung
Immer komplexere Konstruktionen erschweren die Isolierung von Fehlern und Defekten in der Halbleiterfertigung. Mit Verfahren der optischen Fehlerisolierung können Sie die Leistung von elektrisch aktiven Geräten analysieren, um systemrelevante Defekte zu finden, die zu einem Geräteausfall führen.
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