Thermo Scientific™

Source d’ions à double faisceau MAGCIS™ pour instruments XPS

Référence: IQLAADGAAFFAPFMBFP
Thermo Scientific™

Source d’ions à double faisceau MAGCIS™ pour instruments XPS

Référence: IQLAADGAAFFAPFMBFP
Analysez simultanément les matériaux mous et durs grâce à la source d’ions à double faisceau Thermo Scientific™ MAGCIS™ pour instruments XPS. Disponible sur tous les nouveaux instruments XPS Thermo Scientific, la source d’ions MAGCIS permet le profilage de profondeur des matériaux mous, tels que les polymères à l’aide d’ions de clusters gazeux, ainsi que des couches de matériaux durs, tels que les métaux ou le silicium en utilisant les ions monoatomiques. Idéale pour les échantillons de profilage, comme les couches minces organiques, les revêtements sur tissus ou les circuits électroniques imprimés, la source d’ions à double faisceau MAGCIS permet la caractérisation des matériaux stratifiés en une seule étape très simple.
 
Référence
IQLAADGAAFFAPFMBFP
Taille unitaire
Each
Description
Source d’ions à double faisceau MAGCIS pour instruments XPS
Spécifications complètes
Profilage de profondeurMAGCIS Dual Mode Ion Source
DescriptionSource d’ions à double faisceau MAGCIS pour instruments XPS
À utiliser avec (équipement)spectromètre de photoélectrons X K-Alpha ; microsonde XPS ESCALAB 250Xi ; système XPS à résolution angulaire Theta Probe
Unit SizeEach
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RéférenceSpécificationsTaille unitaireDescriptionPrix (EUR)
IQLAADGAAFFAPFMBFPSpécifications complètes
EachSource d’ions à double faisceau MAGCIS pour instruments XPSDemander un devis
Profilage de profondeurMAGCIS Dual Mode Ion Source
DescriptionSource d’ions à double faisceau MAGCIS pour instruments XPS
À utiliser avec (équipement)spectromètre de photoélectrons X K-Alpha ; microsonde XPS ESCALAB 250Xi ; système XPS à résolution angulaire Theta Probe
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La spectroscopie de photoélectrons X (XPS) utilise une source d’ions pour marquer les fines couches des matériaux stratifiés afin de caractériser chacune des couches individuellement. La technique a de nombreuses applications utiles, comme l’étude de la structure complète des écrans tactiles en mesurant les revêtements déposés sur plasma pour les dispositifs biomédicaux ou pour comprendre les OLED et les cellules photovoltaïques. 

Au fil des ans, la technique XPS a utilisé la pulvérisation d’ions d’argon pour étudier les modifications chimiques sur toute la profondeur d’un matériaux stratifié ou pour nettoyer les surfaces inorganiques. Cette source d’ions, cependant, risque d’endommager la surface des matériaux plus mous. Plus récemment, des sources d’ions à cluster gazeux ont été mises au point pour surmonter ces limites, permettant ainsi l’analyse de matériaux autrefois inaccessibles pour le profilage de profondeur XPS. 

La source d’ions à double faisceau MAGCIS pour instruments XPS fonctionne dans les deux modes : monoatomique ou cluster gazeux, permettant l’analyse du profil de profondeur d’une large gamme de types d’échantillons. La source d’ions MAGCIS est entièrement commandée par le logiciel Thermo Scientific™ Avantage™, le logiciel d’analyse de surfaces utilisé sur tous les systèmes XPS Thermo Scientific.  La manipulation des gaz et la commande de la source sont complètement invisibles pour les opérateurs ; tout ce qu’il leur reste à faire est de choisir le mode qu’ils souhaitent utiliser : un faisceau d’ions soit “monoatomique”, soit “à cluster gazeux” d’une énergie particulière et procéder à l’expérience.

Applications

  • Profils de profondeur des multicouches de polymère
  • Nettoyage des surfaces des oxydes et des verres
  • Profils de profondeur des matériaux mixtes (polymère / inorganiques)
  • Profils de profondeur des métaux et oxydes
  • Compréhension des propriétés électroniques des polymères
  • Analyse des appareils à base de graphène
  • Conformité des revêtements biomédicaux
  • Comparaison des traitements des tissus
  • Cellules solaires organiques et inorganiques
  • Préparation des matériaux High-K pour XPS avec résolution angulaire

Figures

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