나노단위 프로토타이핑

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기술이 지속적으로 소형화되어 감에 따라, 나노단위 장치 및 구조에 대한 수요는 계속 증가하고 있습니다. 최신 아이디어와 설계를 귀중한 자산으로 변환해야 하는 문제는 계속 증가하고만 있으며, 나노 단위 장치의 성공적인 프로토타이핑을 위해서는 상당한 기술 및 재정 상의 장애를 극복해야 합니다.

표준 나노제작 배치(batch) 프로세스에는 각 패턴 층에 다른 기계를 사용하는 과정이 포함됩니다. 이 기기에는 레지스트 응용분야를 위한 스핀 코팅장치, 리소그래피 도구, 레지스트 개발을 위한 습식 화학 물질, 플라즈마 클리너, 패턴 전달을 위한 증착 또는 에칭 장비 등이 포함됩니다. 이처럼 뛰어난 도구를 많이 사용하면 프로토타이핑 프로세스의 비용이 많이 들고 시간이 많이 소요됩니다. 연구자들이 더 작은 차원의 나노 기술을 추구함에 따라, 이들 확립된 절차와 레시피는 더 이상 신속한 개발 요구에 부응하지 못하는 경우가 많습니다.

신뢰할 수 있는 나노 프로토타이핑 기술은 패턴 설계 실행을 위한 전문적인 전략을 특징으로 합니다. 여기에는 패턴 생성 프로세스를 실시간으로 관찰하고, 결과로 생성된 구조를 고분해능으로 즉시 이미지 생성하는 기능이 포함되어 있으며, 이는 패턴 프로세스를 고유하게 제어할 수 있게 해줍니다. 이것은 또한 관찰자가 개발 프로세스를 가속화할 수 있도록 즉각적인 피드백 루프를 제공합니다. 이것이 바로 DualBeam(집속 이온 빔 - 주사전자현미경 또는 FIB-SEM) 기술이 나노 프로토타이핑에 이상적인 이유입니다. FIB가 밀링 또는 화학적 증착을 통해 나노미터 단위로 물질을 정확하게 추가 또는 제거하므로 SEM은 고분해능 영상을 구현합니다.

Thermo Fisher Scientific은 나노단위 설계를 현실로 구현할 수 있는 현명하며 효율적인 방법을 제공합니다. DualBeam 장비는 고유한 정밀 단계가 특징이며 최첨단 소프트웨어와 패터닝(patterning) 엔진이 결합되어 있습니다. 이와 더불어, 마이크로 및 나노 단위 기능 프로토타입 장치를 빠르게 설계, 생성 및 검사할 수 있는 강력한 프로토타이핑 워크플로우를 생성합니다.